AMO und SÜSS MicroTec kooperieren im Bereich Nanoimprint zur Entwicklung von UV-SCIL

Die AMO GmbH, ein privater Forschungsdienstleister im Bereich der Nanofabrikation, und SÜSS MicroTec, einer der weltweit führenden Hersteller von Anlagen- und Prozesslösungen für die Mikrostrukturierung arbeiten zusammen an Nanoimprint-Verfahren zur Entwicklung von Applikationen für SCIL (Substrate Conformal Imprint Lithography) in UV-aushärtenden Lacken.

Die SCIL-Methode von SÜSS MicroTec ermöglicht Standard-Imprinting-Anwendungen auch für das vollflächige Prägen von 6-Zoll Wafern. Nanoimprinten mit hoher Auflösung kann damit jetzt auch über große Substrate ausgeführt werden. Neuartige Stempel mit einem reproduzierbaren Druckspektrum unterhalb 50 nm verursachen beim Einsatz von weichem, elastischem Material keine Verformungen oder Zerstörungen. Die Verwendung von SCIL mit UV-aushärtenden Lacken verbindet so eine hohe Auflösung mit einem hohen Durchsatz. AMO liefert dabei zwei Schlüsselkomponenten für die Entwicklung: der Masterstempel für großflächige Nanostrukturen sowie den UV-aushärtenden Nanoimprint-Lack „AMONIL“. Die bis zu 6 Zoll großen Master werden mit Laser-Interferenzlithographie und Plasmaätzen in Silizium bei AMO hergestellt und tragen perfekte binäre periodische Muster zwischen 180 und 2.500 nm. Diese holographischen Gitter zeichnen sich, bedingt durch die spezielle Herstellungstechnologie, durch vollkommene nahtlose Muster und geringe Defektdichte auf großer Fläche aus.

Von einem Master können hunderte flexible Stempel für das Nanoimprint-Verfahren repliziert werden. Mit der SCIL-Technik wird der großflächige Stempel in den AMONIL-Lack gedrückt und anschließend mit UV-Licht ausgehärtet. Dieses Prägematerial wurde von AMO bereits für den Einsatz von harten Quarz- und weichen PDMS-Stempeln in herkömmlichen Imprint-Prozessen optimiert. Das Imprint-Resistmaterial wird standardmäßig in verschiedenen Dicken von 100 bis 800 nm von der AMO GmbH vertrieben. Mit SCIL ist nun durch die sequenzielle Kontaktierung und Separationstechnologie eine verzerrungsfreie Replikation des Stempels mit hohem Durchsatz möglich.

Durch Zusammenführung der bei den Partnern vorhandenen Kompetenzen konnte im Rahmen der Kooperation das UV-SCIL-Verfahren großflächig demonstriert werden. Den Kunden von AMO und SÜSS MicroTec steht nun die Master-, Material- sowie Tool- und Prozesstechnologie für Anwendungsentwicklungen, z.B. in den Bereichen LED/VCSEL, diffraktive / refraktive optische Elemente, strukturelle magnetische Schichten oder funktionelle Materialien sowie gedruckte Elektronik oder RFIDs, zur Verfügung.

Kontakt: Maike Meyer-Amjadi, AMO GmbH
meyer@amo.de