Die Allresist GmbH ist unabhängiger und eigenständiger Resisthersteller für die Mikroelektronik. Seit 1992 auf dem Markt, entwickelt, produziert und vertreibt die Firma eigene lichtempfindliche Lacke (Photo- und E-Beam Resists). Eine Spezialistin für Entwicklung und Vertrieb von Elektronenstrahllithographie-Maschinen des Geräteherstellers Vistec Electron Beam GmbH testet auf dem Markt befindliche E-Beam-Resists, um ihren Kunden Lackempfehlungen und Verarbeitungshinweise zu geben. Auf der E-Beam-Maschine SB 250 wurde der Elektronenstrahllack CSAR 62 (AR-P 6200.09) der Allresist GmbH mit dem ZEP 520A hinsichtlich Strukturauflösung, Kontrast und Empfindlichkeit verglichen.
In Bezug auf die Strukturauflösung wiesen die 90 nm Stege einer 200 nm dicken Schicht sowohl beim CSAR 62 als auch beim ZEP 520A eine exzellente Strukturauflösung von 10 nm und vergleichbare Prozessfenster auf.
Während die Systeme ZEP/ZED-N50 und CSAR/AR600-549 nahezu gleich gute Kontraste ergeben, verdoppelt sich der Kontrast des CSAR mit dem hierfür optimierten Entwickler AR 600-546, was diesen Elektronenstrahllack daher für höchste Auflösungen prädestiniert (siehe Abbildung rechts oben).
Das Diagramm rechts unten zeigt, dass das optimierte System CSAR/AR600-546 doppelt so empfindlich wie das des ZEP/ZED-N50 ist, wodurch sich die Schreibzeit deutlich verkürzt.
Aus allen drei Untersuchungen geht hervor, dass sowohl der ZEP 520A als auch der CSAR 62 über sehr gute Eigenschaften verfügen. Somit stellt CSAR 62 eine vollwertige Alternative mit teilweise günstigeren Parametern dar. Diese ergeben sich auch aus der Entwicklervielfalt der von Allresist angebotenen Entwicklertypen. Mit den drei verschiedenen Entwicklern können Dosis, Entwicklungszeit und Resistkontrast über einen großen Bereich ideal variiert und so der jeweiligen Anwendung angepasst werden. Für Anwender ist auch der Preis ein relevanter Faktor, denn CSAR ist laut Angaben des Herstellers aktuell viermal preiswerte als ZEP.
Kontakt: Brigitte Schirmer, Allresist GmbH
info@allresist.de
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