SÜSS MicroTec schließt Lizenzvereinbarung mit Philips Research für neue Nanoimprinting-Technologie

SÜSS MicroTec, Lieferant von Systemlösungen für die Märkte 3D, MEMS, Advanced Packaging und Nanotechnologie, ist in eine Lizenzvereinbarung mit Philips Research in Eindhoven (Niederlande) eingetreten. In dem gemeinsamen Projekt „Substrate Conformal Imprint Lithography (SCIL)“ soll eine bereits existierende Geräteplattform mit dem zusätzlichen Nanoimprinting-Feature (NIL) ausgestattet und auf den Markt gebracht werden.

Die neue Prägetechnologie zur Erzeugung von Strukturen im sub-50 nm-Bereich schließt eine technische Lücke: Bislang war eine hohe Auflösung nur auf kleinen Flächen unter Verwendung eines harten Stempels erreichbar, während bei großflächigen Anwendungen mit Einsatz von weichen Stempeln nur Strukturen von unter 200 nm möglich waren. Mit SCIL lassen sich nun auch mit weichem Stempel bei großflächigen Anwendungen Strukturen erzeugen, die kleiner als 50 nm sind. Dabei sind Aspektverhältnisse von 1:5 und mehr möglich. Das Material härtet bei Raumtemperatur und ohne Einwirkung von UV-Licht aus.

Grundsätzlich sind alle Laboraligner von SÜSS MicroTec, die zum Prozessieren von 150- und 200 mm-Wafern eingesetzt werden, mit dem SCIL-Feature nachrüstbar. Zur Prozessevaluierung steht ein Versuchsaufbau bei Philips zur Verfügung. Der SÜSS-Laboraligner mit integrierter SCIL-Funktionalität soll noch in diesem Jahr auf den Markt kommen.

SÜSS MicroTec AG
Brigitte Wehrmann
brigitte.wehrmann@suss.com
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